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HX系列低溫恒溫循環器常應用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。并且對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。
HX 低溫恒溫循環器廣泛應用于石油.化工，電子儀表，物理，化學，生物工程，醫藥衛生，生命科學，輕工食品物性測試及化學分析等研究部門，高等院校，企業質檢及 部門，為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的場源，對實驗樣品或 的產品進行恒定溫度實驗或測試，也可作為直接加熱或制冷和輔助加熱或制冷的熱源或冷源。
